摘要：金融界2024年3月30日消息，据国家知识产权局公告，上海浦东发展银行股份有限公司申请一项名为“一种基于双注册中心的微服务信息双写系统、方法及装置“公开号CN117793206A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本说明书涉及软件开发领域，尤其是一种基于双注册中心的微后面会介绍。
...金融界2024年3月30日消息，据国家知识产权局公告，上海浦东发展银行股份有限公司申请一项名为“一种基于双注册中心的微服务信息双写系统、方法及装置“公开号CN117793206A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本说明书涉及软件开发领域，尤其是一种基于双注册中心的微后面会介绍。
金融界3月25日消息，有投资者在互动平台向芯碁微装提问：你的客户，沪电股份新高，深南电路反弹翻倍., 都是AI算力对高端PCB的需求预期， 为何芯碁微装还低迷？ 另外很想问，你公司有长期投资的价值吗？公司回答表示：公司专注直写光刻技术的研发生产，目前已成长为国内直写光刻设备领神经网络。
jin rong jie 3 yue 2 5 ri xiao xi ， you tou zi zhe zai hu dong ping tai xiang xin 碁 wei zhuang ti wen ： ni de ke hu ， hu dian gu fen xin gao ， shen nan dian lu fan dan fan bei . , dou shi A I suan li dui gao duan P C B de xu qiu yu qi ， wei he xin 碁 wei zhuang hai di mi ？ ling wai hen xiang wen ， ni gong si you chang qi tou zi de jia zhi ma ？ gong si hui da biao shi ： gong si zhuan zhu zhi xie guang ke ji shu de yan fa sheng chan ， mu qian yi cheng chang wei guo nei zhi xie guang ke she bei ling shen jing wang luo 。
证券之星消息，根据企查查数据显示格力电器(000651)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种控制模块、方法及微控制器芯片”，专利申请号为CN201910563511.7,授权日为2024年4月5日。专利摘要：本发明涉及一种控制模块、方法及微控制器芯片，该模块包括：硬件读写模块，用于进行神经网络。
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8月18日，由中国美术馆主办的“微笔写大千——廖松涛小幅中国画展”开幕。此次展览是中国美术馆策划与研究专题系列展，展出廖松涛近年来精心创作的小幅作品20件(套)。廖松涛，1973年生于江苏镇江，现为江苏省美术家协会新文艺群体工作委员会委员，镇江市美术家协会副主席。廖松后面会介绍。
金融界2023年12月2日消息，据国家知识产权局公告，合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“直写光刻数据处理方法与系统”，公开号CN117148683A,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本发明提供一种直写光刻数据处理方法与系统，其直写光刻数据处理方法主要将原始矢量说完了。
评论员张泰来便利人才了解享受政策红利，济南出了一“本”词典。近日，济南市委人才办编制发布了电子版人才政策微词典(以下简称“微词典”),对人才政策“双30条”分类梳理，从人才分类目录、人才保障待遇、人才重点工程、人才政策落实、人才平台载体建设、校(院)地融合发展、..
金融界3月1日消息，有投资者在互动平台向芯碁微装提问：AI新时代的到来，芯碁微装有什么发展机遇？公司回答表示：算力需求快速增长的当下，先进封装是决定AI 芯片内互联速度的关键。公司直写光刻设备在先进封装中采用多光学引擎并行扫描技术，除了无掩膜带来的成本及操作便捷等优等会说。
金融界2023年11月28日消息，据国家知识产权局公告，深圳市明微电子股份有限公司申请一项名为“一种在线写址方法、装置、终端设备及存储介质“公开号CN117135791A,申请日期为2022年5月。专利摘要显示，本申请适用于通信领域，提供了一种在线写址方法、装置、终端设备及存等我继续说。
金融界11月2日消息，芯碁微装在互动平台表示，公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务，主要产品及服务包括PCB 直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及后面会介绍。
证券之星消息，根据企查查数据显示芯碁微装(688630)新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种被动元件直写曝光设备”，专利申请号为CN202321822604.5,授权日为2024年1月26日。专利摘要：本实用新型涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种被动元件直写曝光设备，包括基座、输后面会介绍。
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